ସିଲିକନ୍ ଗୁଣର ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ସୂଚକ ମଧ୍ୟରୁ କଠିନତା |ସାଧାରଣତ speaking କହିବାକୁ ଗଲେ, ରବର ବିଷୟବସ୍ତୁ ଯେତେ ଅଧିକ, କଠିନତା ମଧ୍ୟ କମ୍ |ସିଲିକନ୍ ର କଠିନତା ମୁଖ୍ୟତ the ଶୋର କଠିନତା ମାନାଙ୍କ ଉପରେ ଆଧାରିତ ଏବଂ ପରୀକ୍ଷକ ମଧ୍ୟ ଶୋର କଠିନତା ପରୀକ୍ଷଣକାରୀକୁ ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତି |ବ୍ୟବହୃତ ଦ୍ରବ୍ୟର କାର୍ଯ୍ୟ ଉପରେ ନିର୍ଭର କରି କଠିନତା 0 ରୁ 100 ଡିଗ୍ରୀ ମଧ୍ୟରେ ଭିନ୍ନ ହୋଇଥାଏ |ସିଲିକନ୍ ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକର ପ୍ରକ୍ରିୟା ଅନୁଯାୟୀ ଭିନ୍ନ କଠିନତା ଥାଏ ଏବଂ ଏହି ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଦୁଇ ପ୍ରକାରର ତରଳ-କଠିନ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଥାଏ |

 

ତରଳ ସିଲିକନ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ "ନିମ୍ନ ଗ୍ରେଡ୍" ସିଲିକନ୍ ରବର ଉତ୍ପାଦ ତିଆରି କରିବାରେ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ, ଯେପରିକି 0 ରୁ 20 ଡିଗ୍ରୀ, ଯଦିଓ ଆପଣ ଏହାକୁ ହାତରେ ନେଇଯାଆନ୍ତି, ଏହା ଅତ୍ୟନ୍ତ ଷ୍ଟିକ୍ ଅଟେ |ଏହି ସିଲିକନ୍ ଉତ୍ପାଦଗୁଡ଼ିକ ସାଧାରଣତ rare ବିରଳ, ଏବଂ ତରଳ ସିଲିକନ୍ ଛାଞ୍ଚର ଏକ ସେଟ୍ ବିକାଶ କରିବା ମହଙ୍ଗା ଅଟେ |ଅଳ୍ପ କିଛି ପାଇଁ, ସାଧାରଣତ it ଦଶହଜାର ଡଲାର ଖର୍ଚ୍ଚ ହୁଏ |ଅଧିକାଂଶ ତରଳ ପ୍ରକ୍ରିୟା ପ୍ରାୟ 10 ରୁ 20 ଡିଗ୍ରୀରେ କରାଯାଏ |ତରଳ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ସହିତ ନିର୍ମିତ କିଛି ସିଲିକନ୍ ରବର ଉତ୍ପାଦ ପାଇଁ, ତରଳ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ସହିତ ନିର୍ମିତ ସିଲିକନ୍ ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକ ସହଜରେ ସ୍ୱ-ଅପସାରଣ ଯୋଗ୍ୟ ନୁହେଁ ଏବଂ ସାମଗ୍ରୀ ହେତୁ ଅସନ୍ତୁଷ୍ଟ ଧାରରେ ସମସ୍ୟା ସୃଷ୍ଟି କରିପାରେ |ତେଣୁ, ତରଳ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସ୍ୱଳ୍ପ ସମୟର ସିଲିକନ୍ ଉତ୍ପାଦ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ, ଯାହାକି ଅତ୍ୟଧିକ କଠୋର ଆତ୍ମ-ସମାବେଶ ଆବଶ୍ୟକ କରେ ନାହିଁ |ତରଳ ସିଲିକନ୍ ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକ ସୁପାରିଶ କରାଯାଏ: ସିଲିକନ୍ ପାସିଫାୟର୍ସ |

 

2. କଠିନ ସ୍ଥିତି ପ୍ରକ୍ରିୟା, ବର୍ତ୍ତମାନ, କଠିନ ସିଲିକନ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ସର୍ବନିମ୍ନ କୋମଳତା ପ୍ରାୟ 30 ଡିଗ୍ରୀ, ଏବଂ ସର୍ବୋଚ୍ଚ ଡିଗ୍ରୀ ହେଉଛି 80 ଡିଗ୍ରୀ, ଯଦିଓ ଏହା ମଧ୍ୟ ଏକ ଉଚ୍ଚ ସ୍ତରରେ ପହଞ୍ଚିପାରେ, କିନ୍ତୁ ବିଫଳତା ହାର ଅଧିକ, ଏବଂ ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକ | ବହୁତ ଭଗ୍ନ ଏବଂ ନିଜେ ଅଲଗା କରିବା ସହଜ ନୁହେଁ |ତେଣୁ, କଠିନ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ସର୍ବୋଚ୍ଚ ନରମତା 30 ଡିଗ୍ରୀରୁ 70 ଡିଗ୍ରୀ ମଧ୍ୟରେ |ନରମ ଉତ୍ପାଦ ତିଆରି ହୋଇପାରିବ ନାହିଁ, କିନ୍ତୁ ସ୍ removal ୟଂ ଅପସାରଣ ଧାର ଭଲ, ଏବଂ ଉତ୍ପାଦଟି ଏକ ସୁନ୍ଦର, ବୁରମୁକ୍ତ ରୂପ ଧାରଣ କରେ |